Get Bewertung neuartiger metallorganischer Precursoren für die PDF

By Thomas Wächtler

ISBN-10: 3638949117

ISBN-13: 9783638949118

Diplomarbeit aus dem Jahr 2004 im Fachbereich Elektrotechnik, be aware: 1,3, Technische Universität Chemnitz (Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik, Zentrum für Mikrotechnologien), 87 Quellen im Literaturverzeichnis, Sprache: Deutsch, summary: Vor dem Hintergrund der in der Mikroelektronik-Fertigung heute verbreiteten Kupfertechnologie werden in der vorliegenden Arbeit drei neuartige metallorganische Verbindungen, nämlich phosphitstabilisierte Kupfer(I)-Trifluoracetat-Komplexe vorgestellt und hinsichtlich ihrer Anwendbarkeit für die chemische Gasphasenabscheidung (CVD) von Kupfer untersucht. Im einzelnen handelt es ich um die Substanzen Tris(trimethylphosphit)kupfer(I)trifluoracetat (METFA), Tris(triethylphosphit)kupfer(I)trifluoracetat (ETTFA) und Tri(tris(trifluorethyl)phosphit)kupfer(I)trifluoracetat (CFTFA). Mit den Substanzen erfolgen CVD-Experimente auf TiN und Cu bei Temperaturen <400°C. Die Precursoren werden dabei mittels eines Flüssigdosiersystems mit Verdampfereinheit der Reaktionskammer zugeführt. Während METFA wegen seiner ausreichend geringen Viskosität unverdünnt verwendet werden kann, kommen für ETTFA und CFTFA jeweils Precursor-Acetonitril-Gemische zum Einsatz. Mit keinem der Neustoffe können auf TiN geschlossene Kupferschichten erzeugt werden, während dies auf Kupferunterlagen in Verbindung mit Wasserstoff als Reduktionsmittel gelingt. Die Abscheiderate beträgt hierbei 2-3nm/min; der spezifische Widerstand der Schichten bewegt sich zwischen 4μΩcm und 5μΩcm. Mit allen Substanzen werden besonders an dünnen, gesputterten Kupferschichten Agglomerationserscheinungen und Lochbildung beobachtet. Im Fall von CFTFA treten zusätzlich Schäden am darunterliegenden TiN/SiO2-Schichtstapel auf. Vergleichende Untersuchungen mit der für die Cu-CVD etablierten Substanz (TMVS)Cu(hfac) ergeben sowohl auf Cu als auch auf TiN geschlossene Kupferschichten. Dabei liegen die Abscheideraten bei Temperaturen zwischen 180°C und 200°C im allgemeinen deutlich über 100nm/min. Ein Vergleich dieser Resultate mit den Ergebnissen für die Neustoffe legt nahe, dass den untersuchten Kupfer(I)-Trifluoracetaten keine ausreichende Tauglichkeit für Cu-CVD-Prozesse in der Mikroelektronik-Technologie bescheinigt werden kann. Die im Vergleich zu (TMVS)Cu(hfac) höhere thermische Stabilität der Precursoren und ihre Fähigkeit, mit Wasserstoff als Reaktionspartner auf Cu geschlossene Kupferschichten erzeugen zu können, deutet jedoch auf ihre eventuelle Eignung für ALD-Prozesse hin. Daher widmet sich die Arbeit in einem abschließenden Kapitel dem Thema der Atomic Layer Deposition (ALD), wobei nach einem allgemeinen Überblick besonders auf für die Mikroelektronik relevante ALD-Prozesse eingegangen wird.

Show description

Read Online or Download Bewertung neuartiger metallorganischer Precursoren für die chemische Gasphasenabscheidung von Kupfer für Metallisierungssysteme der Mikroelektronik (German Edition) PDF

Best electrical engineering books

Read e-book online Practical Analog and Digital Filter Design (Artech House PDF

Filters are key elements in an unlimited variety of electronics. They produce crystal transparent sound in song structures, freshen up distortion in radios, televisions, and phones, and are necessary in scientific imaging and scanning. to assist each engineer within the many industries that depend on analog and electronic filters, this booklet exhibits digital engineers the way to speedy grasp analog and electronic clear out layout and implementation.

Get RFID Handbook: Applications, Technology, Security, and PDF

Radio Frequency identity (RFID) tagging is now utilized by the dep. of safeguard and plenty of of the world’s biggest outlets together with Wal-Mart. As RFID maintains to infiltrate industries around the globe, corporations needs to harness a transparent knowing of this know-how with the intention to maximize its power and guard opposed to the aptitude dangers it poses.

Read e-book online Entwurf einer direkten Selbstregelung für permanenterregte PDF

Ziel dieses Buches conflict der Entwurf und die Untersuchung einer hochdynamischen Drehmomentregelung für einen Elektro- bzw. Hybridfahrzeugantrieb mit permanentmagneterregter Synchronmaschine (PMSM). Im Kapitel 2 werden Zahnspulenwicklungen für die vorhandene modulare PMSM ausgelegt und die Maschinenparameter mit Hilfe vom Programm pace bestimmt.

Download e-book for iPad: Block Backstepping Design of Nonlinear State Feedback by Shubhobrata Rudra,Ranjit Kumar Barai,Madhubanti Maitra

This booklet provides a singular, generalized method of the layout of nonlinear nation suggestions keep an eye on legislation for a wide classification of underactuated mechanical structures in line with software of the block backstepping strategy. The keep an eye on legislation proposed this is powerful opposed to the results of version uncertainty in dynamic and steady-state functionality and addresses the problem of asymptotic stabilization for the category of underactuated mechanical platforms.

Extra info for Bewertung neuartiger metallorganischer Precursoren für die chemische Gasphasenabscheidung von Kupfer für Metallisierungssysteme der Mikroelektronik (German Edition)

Sample text

Download PDF sample

Bewertung neuartiger metallorganischer Precursoren für die chemische Gasphasenabscheidung von Kupfer für Metallisierungssysteme der Mikroelektronik (German Edition) by Thomas Wächtler


by Paul
4.4

Get Bewertung neuartiger metallorganischer Precursoren für die PDF
Rated 4.69 of 5 – based on 44 votes